特許
J-GLOBAL ID：200903049332916364

電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置

発明者：
川上 研一

川上 研一 について


出願人/特許権者：
株式会社アドバンテスト

株式会社アドバンテスト について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-302605
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133567
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 スループットをあまり低下させずに、ビームドリフトの影響を低減する電子ビーム露光方法及び装置の実現。【解決手段】 電子銃と、電子銃の発生する電子ビームを試料上に収束しながら偏向する偏向手段と、試料を載置して移動する移動機構とを備え、移動機構で試料を移動しながら電子ビームで試料上にパターンを所定の幅のストライプで露光する動作を繰り返す電子ビーム露光装置であって、基準マークを測定して電子ビームのドリフト量を検出するドリフト量検出手段と、ドリフト量を補正するドリフト量補正手段とを備える電子ビーム露光装置において、ドリフト量補正手段は、ドリフト量を検出した後の複数のストライプで徐々に補正する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを用いて試料上にストライプ毎にパターンを露光する電子ビーム露光方法であって、基準マークを測定して前記電子ビームのドリフト量を検出する工程と、前記ドリフト量を補正する工程とを備える電子ビーム露光方法において、前記ドリフト量を補正する工程では、前記ドリフト量を検出した後の複数の前記ストライプで徐々に補正することを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/04
FI (2件)：
H01L 21/30 541 D ,  H01J 37/04 A
Fターム (8件)：
5C030AA01 ,  5C030AB03 ,  5F056AA20 ,  5F056BA08 ,  5F056BD02 ,  5F056CB22 ,  5F056CC04 ,  5F056CD03
引用特許：
審査官引用 (5件)
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