基板現像装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123977
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315643
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト膜の特性や焼き付けパターンの種類などに応じた適正濃度の現像液を供給して基板内の線幅の均一性を向上する。【解決手段】本発明に係る基板現像装置は、流量調節弁9,11によって各々流量調整された原現像液と純水(親水化処理液)とを単一のノズル3に送り、ノズル3から所定濃度の現像液を基板W上に供給して現像液を液盛りし、その状態で現像処理を行う。反応速度の速いフォトレジスト膜の場合には、現像液の濃度を徐々に高めて目標濃度にする。また、現像処理過程で、基板W上の現像液を一旦振り切った後、新たな現像液を供給して現像処理を行うことにより、基板W上の現像液の濃度ムラを抑制する。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト膜が形成された基板に親水化処理のための親水化処理液を供給した後に、基板に現像液を供給して基板上に現像液を液盛りし、その状態で現像処理を行う基板現像装置であって、基板を回転可能に保持する回転保持手段と、親水化処理液を供給する親水化処理液供給手段と、原現像液を供給する原現像液供給手段と、親水化処理液供給手段および原現像液供給手段にそれぞれ連通接続され、回転保持手段に保持された基板上に親水化処理液および現像液をその順に供給する単一のノズルと、親水化処理液および原現像液のうちの少なくともいずれか一方の流量を調節する流量調節手段と、親水化処理過程では少なくとも親水化処理液をノズルに送り、現像処理過程では親水化処理液と原現像液とを混合して所定濃度の現像液がノズルから吐出されるように、流量調節手段を操作する制御手段とを備えたことを特徴とする基板現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501

Fターム (6件)：

2H096AA24 , 2H096AA25 , 2H096GA30 , 5F046LA03 , 5F046LA04 , 5F046LA14

引用特許：

出願人引用 (7件)

現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-226675 出願人：株式会社東芝, 東京エレクトロン株式会社
特開平2-063060
特開平2-046464

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審査官引用 (6件)

現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-226675 出願人：株式会社東芝, 東京エレクトロン株式会社
処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-084064 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平2-063060

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