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J-GLOBAL ID：200902100012917950   整理番号：99A0245540

サブ-100nm形状を転写する近視野フォトリソグラフィー

Printing Sub-100 Nanometer Features Near-field Photolithography.

著者 (6件)： TANAKA S (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NAKAO M (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HATAMURA Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KOMURO M (Electrotechnical Lab., Ministry of International Trade and Ind., Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA H (Electrotechnical Lab., Ministry of International Trade and Ind., Ibaraki, JPN) ,  HATAKEYAMA M (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37  号： 12B  ページ： 6739-6744  発行年： 1998年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光の回折限度を越えた超高解像度を実現することができる近視野フ...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 近視野 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光の像形成  (BD03050I)

引用文献 (5件)：

• 1) Y. Mitsuoka, K. Nakajima, N. Chiba, H. Muramatsu and T. Akata: Ext. Abstr. (58st Autumn Meet., 1997) Japan Society of Applied Physics and Related Societies, 5p-L8 [in Japanese].
• 2) J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman and G. M. Whitesides: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 2658
• 3) H. Furukawa and S. Kawata: Opt. Commun. 132 (1996) 170.
• 4) Y. Tohma, M. Hatakeyama, K. Ichiki, H. Huang, K. Yamauchi, K. Watanabe and T. Kato: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 7655
• 5) T. Yoshimura, E. W. Scheckler, T. Ogawa, S. Shukuri and H. Shiraishi: Oyo Buturi 63 (1994) 1131 [in Japanese].

タイトルに関連する用語 (4件)： サブ ,  転写 ,  近視野 ,  フォトリソグラフィー