特許
J-GLOBAL ID：200903049403459539

立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法

発明者：
小林 修

小林 修 について

, 
秋山 良

秋山 良 について

, 
磯田 武寿

磯田 武寿 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-024585
公開番号（公開出願番号）：特開2006-206552
出願日： 2005年01月31日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】アルデヒドとケイ素エノラートのアルドール反応により副生するケイ素成分を定量的に回収する手法を提供する。【解決手段】アルデヒドとケイ素エノラートのアルドール反応による立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法であって、以下のステップ含むことを特徴とするケイ素成分の回収方法。 ステップ1:キラルリガンドの存在下、原料アルデヒドと原料ケイ素エノラート組成物〔一般式:Ra3Si-O-X(Raは、アルキル基を示し、Xは任意の置換基を示す)〕をアルドール反応させ立体選択的合成を行うステップ、 ステップ2:ステップ1の反応液を蒸留し、蒸留液として溶媒とともにケイ素成分を分離するステップ、および、 ステップ3:ステップ2の蒸留液を濃硫酸で処理し、生成ケイ素エーテル組成物〔一般式:(Ra3Si)2O(式中のRaは、前記のものを示す)〕を得ると同時に、精密蒸留によりケイ素成分を回収するステップ。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
アルデヒドとケイ素エノラートのアルドール反応による立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法であって、以下のステップ含むことを特徴とするケイ素成分の回収方法。 ステップ1:キラルリガンドの存在下、原料アルデヒドと原料ケイ素エノラート組成物〔一般式:Ra3Si-O-X(Raは、アルキル基を示し、Xは任意の置換基を示す)〕をアルドール反応させ立体選択的合成を行うステップ、 ステップ2:ステップ1の反応液を蒸留し、蒸留液として溶媒とともにケイ素成分を分離するステップ、および、 ステップ3:ステップ2の蒸留液を濃硫酸で処理し、生成ケイ素エーテル組成物〔一般式:(Ra3Si)2O(式中のRaは、前記のものを示す)〕を得ると同時に、溶媒の沸点と生成ケイ素エーテル組成物の沸点の違いを利用して、精密蒸留によりケイ素成分を回収するステップ。
IPC (2件)：
C07C 231/00 ,  C07C 233/47
FI (2件)：
C07C231/00 ,  C07C233/47
Fターム (18件)：
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006AC53 ,  4H006AC81 ,  4H006AD11 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM30 ,  4H006BM71 ,  4H006BM72 ,  4H006BN10 ,  4H006BT12 ,  4H006BV22 ,  4H039CA60 ,  4H039CA66 ,  4H039CA71 ,  4H039CF40
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (1件)
  • 実験化学講座24 有機合成IV-ヘテロ元素・典型金属元素化合物-, 20000410, 第4版, 150頁
審査官引用 (5件)
  • 実験化学講座24 有機合成IV-ヘテロ元素・典型金属元素化合物-, 20000410, 第4版, 150頁
  • 実験化学講座24 有機合成IV-ヘテロ元素・典型金属元素化合物-, 20000410, 第4版, 150頁
  • 実験化学講座24 有機合成IV-ヘテロ元素・典型金属元素化合物-, 20000410, 第4版, 150頁
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