特許
J-GLOBAL ID：200903049468496903

処理液供給装置

発明者：
南 朋秀

南 朋秀 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191453
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077015
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 処理液を無駄にすることなく、配管内の泡の除去を効果的に行うことのできる処理液供給装置を提供する。【解決手段】 供給配管107からフィルタ105、フィルタ105からベント配管108を経由して再び供給配管107へ戻る循環路を形成し、このベント配管108に第1三方弁113を配設する。一方、供給配管107から吐出ポンプ106、吐出ポンプ106からパージ配管109を経由して再び供給配管107へ戻る循環路を形成し、このパージ配管109に第2三方弁114を配設し、上記第1三方弁113や第2三方弁114を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う。
請求項（抜粋）：
被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は廃液管との間を連通させる三方弁と、前記三方弁を切り換える手段と、を具備する処理液供給装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  F17D 3/00
FI (3件)：
H01L 21/30 564 Z ,  B05C 11/10 ,  F17D 3/00
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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