特許
J-GLOBAL ID：200903049522700627

光インプリント用モールド及び光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法

発明者：
若松 哲史

若松 哲史 について

, 
山下 典子

山下 典子 について

, 
市川 健次

市川 健次 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-050768
公開番号（公開出願番号）：特開2009-208240
出願日： 2008年02月29日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】基板の両面に位置するモールドの位置合わせが可能となり、両面同時の光インプリントを高精度に行うことができ、スループットが向上する光インプリント用モールド及び該光インプリント用モールドを用いた光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。【解決手段】樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも2つ有し、前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられている光インプリント用モールドである。【選択図】図6A
請求項（抜粋）：
樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、 前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも2つ有し、 前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられていることを特徴とする光インプリント用モールド。
IPC (6件)：
B29C 33/42 ,  G03F 7/20 ,  B29C 59/02 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/855 ,  G11B 5/65
FI (6件)：
B29C33/42 ,  G03F7/20 501 ,  B29C59/02 Z ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/855 ,  G11B5/65
Fターム (27件)：
2H097AA20 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AG19 ,  4F202AH79 ,  4F202AJ03 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD23 ,  4F202CK25 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AP06 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5D006DA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112GA20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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