微細構造転写装置および微細構造転写方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：磯野道造 , 多田悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-187958
公開番号（公開出願番号）：特開2008-012844
出願日： 2006年07月07日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

【課題】本発明は、スタンパや被転写体が破損することがない小さな力でスタンパと被転写体との間に樹脂やその他のパターン層形成材料を充分に押し広げることができるとともに、被転写体に均一な厚さのパターン形成層を形成することができる微細構造転写装置を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、微細パターンが形成されたスタンパ2を被転写体1に接触させて、前記被転写体1の表面に前記スタンパ2の微細パターンを転写する微細構造転写装置A1において、前記被転写体1の表面における、前記微細パターンの転写領域で不均一な圧力分布を持たせる機構を有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

微細パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させて、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、前記被転写体の表面における前記微細パターンの転写領域で、不均一な圧力分布を持たせる機構を有することを特徴とする微細構造転写装置。

IPC (4件)：

B29C 59/02 , H01L 21/027 , G03F 7/20 , B29C 33/42

FI (4件)：

B29C59/02 B , H01L21/30 502D , G03F7/20 521 , B29C33/42

Fターム (17件)：

4F202AA44 , 4F202AF01 , 4F202AH37 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CK12 , 4F202CL40 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN09 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国特許第6696220号明細書
加工方法、磁気転写方法及び記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-358062 出願人：株式会社東芝
高精度プレス機
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-205423 出願人：明昌機工株式会社, 松井真二, 独立行政法人科学技術振興機構

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審査官引用 (6件)

ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-078460 出願人：株式会社日立製作所
インプリント方法およびインプリント装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-084681 出願人：日本電信電話株式会社
磁気記録媒体の製造方法およびインプリント方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-238093 出願人：松下電器産業株式会社

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