近赤外線吸収フィルター

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：植木久一 , 小谷悦司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-434289
公開番号（公開出願番号）：特開2005-189738
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】薄膜化を可能にしつつ多層化を実現し、さらに外観や生産性も良好なフィルムより構成される近赤外線吸収フィルターを提供する。【解決手段】反射防止機能を有する表面層(A)、基材フィルム(B)、近赤外線吸収層(C)が順次積層されてなる近赤外線吸収フィルターであって、上記近赤外線吸収層(C)は、波長800〜1000nmの近赤外線吸収領域に極大吸収を有する色素、およびHLBが2〜12の界面活性剤を含有してなるものであることを特徴とする近赤外線吸収フィルターである。

請求項（抜粋）：

反射防止機能を有する表面層(A)、基材フィルム(B)、近赤外線吸収層(C)が順次積層されてなる近赤外線吸収フィルターであって、上記近赤外線吸収層(C)は、波長800〜1000nmの近赤外線吸収領域に極大吸収を有する色素、およびHLBが2〜12の界面活性剤を含有してなるものであることを特徴とする近赤外線吸収フィルター。

IPC (5件)：

G02B5/22 , B32B7/02 , B32B27/18 , B32B27/36 , G09F9/00

FI (5件)：

G02B5/22 , B32B7/02 103 , B32B27/18 A , B32B27/36 , G09F9/00 313

Fターム (52件)：

2H048CA04 , 2H048CA13 , 2H048CA19 , 2H048CA24 , 4F100AA20H , 4F100AH02H , 4F100AH06H , 4F100AK01B , 4F100AK01E , 4F100AK25 , 4F100AK41B , 4F100AK42 , 4F100AK51 , 4F100AK52 , 4F100AR00A , 4F100AR00C , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100BA10E , 4F100CA07B , 4F100CA07C , 4F100CA13C , 4F100CA16D , 4F100CA18C , 4F100EJ38B , 4F100GB41 , 4F100GB56 , 4F100JB05C , 4F100JB05H , 4F100JD08E , 4F100JD09C , 4F100JK12A , 4F100JL02 , 4F100JL05 , 4F100JL13D , 4F100JN01D , 4F100JN01E , 4F100JN01H , 4F100JN06A , 4F100YY00A , 4F100YY00C , 4F100YY00H , 5G435AA06 , 5G435AA17 , 5G435BB06 , 5G435FF14 , 5G435GG33 , 5G435HH03

引用特許：

出願人引用 (9件)

近赤外線吸収フィルム及び当該フィルムを含む多層パネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-172109 出願人：カネボウ株式会社
NIR吸収性組成物、吸収フィルム、該組成物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-113152 出願人：日立化成工業株式会社
近赤外線カット材料及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-071747 出願人：日清紡績株式会社

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