特許
J-GLOBAL ID：200903049685672671
パターン形成体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-002637
公開番号（公開出願番号）：特開2004-212900
出願日： 2003年01月08日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：
【課題】本発明は、製造効率よく低コストに高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ平行光でない光源を用いることが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、透明基材と、前記透明基材上に形成された波長200nm以下の光の照射により特性が変化する特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板に、前記透明基材側から波長200nm以下の光を照射することにより、前記特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基材と、前記透明基材上に形成された波長200nm以下の光の照射により特性が変化する特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板に、前記透明基材側から波長200nm以下の光を照射することにより、前記特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (3件)：
G02B5/20
, B41J2/01
, C08J7/00
G02B5/20 101
, C08J7/00 304
, C08J7/00
, B41J3/04 101Z
2C056EA24
, 2C056FA04
, 2C056FB01
, 2H048BA02
, 2H048BA33
, 2H048BA60
, 2H048BA64
, 2H048BB24
, 2H048BB42
, 4F073AA01
, 4F073BA33
, 4F073BB01
, 4F073CA45
