プラズマ生成装置及び方法並びに可変デューティサイクルの高周波駆動回路

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：石川徹 , 石戸久子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-517522
公開番号（公開出願番号）：特表2007-524963
出願日： 2004年06月21日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：

ここに開示するリアクティブ回路は、高密度のプラズマを生成する方法及びシステムにおいて、動的整合用回路網を使用することを必要とせずに、インピーダンスが動的に変化するプラズマを直接的に駆動できるようにするものである。このリアクティブ回路網は、プラズマインピーダンスのリアクタンス成分であるプラズマリアクタンスの値が第1の値であるときに小さな合計リアクタンスを提供し、且つ、プラズマリアクタンスの値が第2の値であるときに所定リアクタンス限界値を超えないリアクタンスを示すようにしたものである。プラズマリアクタンスの前記第1の値及び前記第2の値は、動的に変化するプラズマリアクタンスの値の予期される値域の大部分に及ぶ値である。プラズマリアクタンスの前記第1の値及び前記第2の値を、例えば、このプラズマリアクタンスの予期される上限値及び下限値に夫々対応した値としてもよく、或いはまた、プラズマリアクタンスの前記第1の値を、プラズマリアクタンスの予期される平均値に対応した値としてもよい。

請求項（抜粋）：

動的に変化するプラズマのインピーダンスを直接的に駆動するための動的整合用回路の必要性を低減する方法において、低出力インピーダンスの高周波電源を用意するステップと、前記高周波電源と前記プラズマとの間に第1リアクタンスと第2リアクタンスとを有するリアクティブ回路網を介装するステップであって、前記第1リアクタンス及び前記第2リアクタンスは、前記プラズマインピーダンスのリアクタンス成分であるプラズマリアクタンスの値が第1の値であるときに、前記高周波電源にとっての負荷が略々純抵抗の負荷となり、且つ、プラズマリアクタンスの値が第2の値であるときに、前記高周波電源にとっての負荷が所定リアクタンス値の負荷となるように選定されている、ステップと、平均入力電力を制御するステップと、を含むことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , H01L 21/306 , H01L 21/205 , C23C 16/505

FI (4件)：

H05H1/46 R , H01L21/302 103 , H01L21/205 , C23C16/505

Fターム (7件)：

4K030FA01 , 4K030KA30 , 5F004BA20 , 5F004CB07 , 5F045AA08 , 5F045EH11 , 5F045EH19

引用特許：

出願人引用 (11件)

米国特許第4,792,732号公報
米国特許第6,486,431号公報
米国特許第6,552,296号公報

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審査官引用 (8件)

成膜装置用高周波電源装置、位相調整器および放電状態変動量モニタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-266898 出願人：株式会社日立製作所
特開昭63-200533
特開昭63-200533

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