特許
J-GLOBAL ID：200903090754994988

プラズマ発生のためのマッチング回路およびそのマッチング回路を利用したプラズマ発生駆動装置

発明者：
北畠 顕弘

北畠 顕弘 について

, 
山田 敬治

山田 敬治 について


出願人/特許権者：
三容真空工業株式会社

三容真空工業株式会社 について


代理人 (1件)： 倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361162
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163099
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】高周波電流による高周波放電によってプラズマを均一に発生させるとことができ、プラズマエッチングなどのドライエッチングやプラズマCVDにおいて、スパッタを起こさずに、所定のプラズマ処理を行うことができ、しかも簡単な回路構成のプラズマ発生のためのマッチング回路を提供する。【解決手段】二つの電極2、3に対し、それぞれのポート15、16を介して高周波電流を供給してそれぞれ放電を起こすことにより、プラズマを発生させるコイルと容量とで構成されるプラズマ発生のためのマッチング回路である。各電極2、3に直列にコイル11、12が接続され、容量13、14がこれらのコイル11、12を挟んでポート15、16間にそれぞれ並列に接続されている。また電極2、3は同電位とされる。
請求項（抜粋）：
二つの電極に対し、それぞれのポートを介して高周波電流を供給してそれぞれ放電を起こすことにより、プラズマを発生させるコイルと容量とで構成されるプラズマ発生のためのマッチング回路であって、上記各電極に直列にコイルが接続され、かつ、容量がこれらのコイルを挟んでポート間にそれぞれ並列に接続されているとともに、これらの両電極は同電位とされていることを特徴とするプラズマ発生のためのマッチング回路。
IPC (6件)：
H05H 1/46 ,  C23C 14/54 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (7件)：
H05H 1/46 R ,  H05H 1/46 M ,  C23C 14/54 B ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 D ,  H01L 21/302 C
Fターム (24件)：
4K029BA03 ,  4K029BA17 ,  4K029BA44 ,  4K029BA48 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029CA06 ,  4K029EA06 ,  4K030BA02 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030BA43 ,  4K030BA46 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB32 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F045AA08 ,  5F045EH01 ,  5F045EH12
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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