特許
J-GLOBAL ID：200903049798621887
リソグラフィのための装置および方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-136511
公開番号（公開出願番号）：特開2006-013453
出願日： 2005年05月09日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】構造化された表面を有するテンプレートから放射線重合可能な表面層にパターンを転写するための装置および方法。【解決手段】第1主要部(101)および第2主要部(102)と、主要部の間隔(115)を調節する手段と、上記テンプレートおよび上記基板を互いに平行に係合した状態で上記間隔内に支持するための支持手段、上記構造化された表面が、上記表面層に面する支持手段と、上記間隔内に放射線を放射するように工夫された放射線源(110)とを備える。空洞(115)は、可撓性膜(113)からなる第1の壁を有し、調節可能な超過圧力を上記空洞内に存在する媒体に加えるための手段(114;116)が、提供され、それによって、基板とテンプレートとの接触面全体にわたって、力の均一な分布が、得られる。さらに、装置は、流体層を加熱するために、上記間隔に面した表面を有するヒータ装置(21)を含む。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
構造化された表面を有するテンプレートから放射線重合可能流体からなる表面層を備えた基板にパターンを転写するための装置であって、
向かい合った表面を有する第1の主要部分および第2の主要部分と、
前記主要部分間の間隔を調節するための手段と、
前記テンプレートおよび前記基板を互いに平行に係合した状態で前記間隔内に支持するための支持手段であり、前記構造化された表面が、前記表面層に面する、前記支持手段と、
前記間隔内に放射線を放射するように工夫された放射線源と、
前記テンプレートまたは前記基板と係合するように工夫された可撓性膜からなる第1の壁を有する空洞と、
調節可能な超過圧力を前記空洞内に存在する媒体に加えるための手段と、
前記間隔に面した表面を有するヒータ装置と、
を備えた装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 39/02
, B81C 5/00
H01L21/30 502D
, B29C39/02
, B81C5/00
4F204AA43
, 4F204AA44
, 4F204AF01
, 4F204AG05
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EF01
, 4F204EF23
, 4F204EK13
, 4F204EK18
, 5F046AA28
, 5F046DA27
, 5F046KA04
