特許
J-GLOBAL ID：200903049851902486

金属酸化物膜の形成方法

発明者：
中澤 明

中澤 明 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-356117
公開番号（公開出願番号）：特開2001-172006
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：
【要約】【課題】 保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜を低コストで形成することを課題とする。【解決手段】 基板の所望の部位に、保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布して一次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射することにより金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の形成方法により上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
基板の所望の部位に、保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布して一次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射することにより金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の形成方法。
IPC (10件)：
C01B 13/14 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/24 303 ,  C03C 17/27 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/313 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02 ,  C03C 17/34
FI (10件)：
C01B 13/14 Z ,  B05D 3/06 102 Z ,  B05D 7/00 H ,  B05D 7/24 303 E ,  C03C 17/27 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/313 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B ,  C03C 17/34 Z
Fターム (62件)：
2H092HA04 ,  2H092MA10 ,  2H092MA16 ,  2H092MA22 ,  2H092MA35 ,  2H092NA15 ,  2H092NA16 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA06 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB28Z ,  4D075BB46Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA21 ,  4D075EC02 ,  4D075EC08 ,  4G042DA01 ,  4G042DB08 ,  4G042DB24 ,  4G042DC01 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE08 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G059AA06 ,  4G059AA08 ,  4G059AC14 ,  4G059AC30 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA03 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB05 ,  5C027AA02 ,  5C027AA06 ,  5C027AA10 ,  5C040FA01 ,  5C040GA02 ,  5C040GA03 ,  5C040GC06 ,  5C040GC18 ,  5C040GD07 ,  5C040GD09 ,  5C040GE07 ,  5C040GE09 ,  5C040JA02 ,  5C040MA22 ,  5C040MA26 ,  5C094AA44 ,  5C094BA31 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA05 ,  5C094FB16 ,  5C094GB10
引用特許：
審査官引用 (7件)
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