特許

J-GLOBAL ID：200903049913120730

蒸着装置

発明者： 浅田 幹夫 ,  内田 敬自 ,  高橋 悌二
出願人/特許権者： トッキ株式会社
代理人 (2件)： 吉井 剛 ,  吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-196348
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035964
出願日： 2002年07月04日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】真空槽の中にX,Y駆動機構あるいはX-θ駆動機構あるいはX-Z駆動機構など複数方向に蒸着源を移動する蒸着源移動機構を設け、蒸着源と基板との距離を近くしても、蒸発源を基板面に沿って、例えばX方向Y方向に移動させて蒸着することで膜厚分布を一定とすることができると共に、基板以外に材料が飛ぶ量を少なくし材料の使用効率を向上できる画期的な蒸着装置を提供すること。【解決手段】減圧雰囲気とする蒸着室1内に設けた固定部4に基板3を固定し、蒸着源7より発生する成膜材料が基板3上に堆積して薄膜が形成されるように構成した蒸着装置において、前記蒸着源7をX,Y,Z,θ方向などの異なる複数方向に若しくはこれら複数方向の合成方向に移動させる蒸着源移動機構8を設けて、この蒸着源移動機構8により蒸着時に前記蒸着源7を前記基板3に対して移動させるように構成した蒸着装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

減圧雰囲気とする蒸着室内に設けた固定部に基板を固定し、蒸着源より発生する成膜材料が基板上に堆積して薄膜が形成されるように構成した蒸着装置において、前記蒸着源をX,Y,Z,θ方向などの異なる複数方向に若しくはこれら複数方向の合成方向に移動させる蒸着源移動機構を設けて、この蒸着源移動機構により蒸着時に前記蒸着源を前記基板に対して移動させるように構成したことを特徴とする蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C14/24

FI (1件)：

C23C14/24 C

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB15 ,  4K029DB23 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 小型熱電子真空アーク蒸発源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-176628   出願人：株式会社昭和真空
• 発光素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-231218   出願人：東レ株式会社
• 成膜装置および成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-259477   出願人：旭光学工業株式会社
• 特開昭61-284569
  
• 特開昭49-026182
  
• 膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-053358   出願人：松下電工株式会社