特許
J-GLOBAL ID：200903050055058205
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-302995
公開番号（公開出願番号）：特開平11-144865
出願日： 1997年11月05日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 有機EL素子において、有機発光領域層に影響を与えることなく、金属電極及び有機発光領域層のフォトリソグラフィーによる微細加工を可能とする。【解決手段】 透明基板1上に、透明電極2及び有機発光層3を形成した後に、有機発光層3の背面全体を覆うように金属陰極4となるメタル層5を形成する。次いで、メタル層5上にフォトレジスト6を塗布し、露光及び現像を行う。この際に、有機発光層3は、メタル層5に覆われているので紫外線や現像液の影響を受けない。次いで、ドライエッチングにより、有機発光層3及びメタル層5をパターニングする。これにより、有機発光層3及びメタル層5のフォトレジスト6で覆われていない部分が除去される。一方、有機発光層3及びメタル層5のフォトレジストに覆われた部分が残り、残った有機発光領域層7は金属陰極4に覆われているのでプラズマダメージを受けない。
請求項（抜粋）：
透明基板上に透明電極と有機発光層とを形成した後に、該有機発光層上に金属電極となるメタル層を形成する形成工程と、次いで、形成されたメタル層をフォトリソグラフィーによりパターニングするパターニング工程とを備えたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H05B 33/06
, H05B 33/26
H05B 33/10
, H05B 33/06
, H05B 33/26 Z
