亜鉛/インジウム系BM膜、及びBM膜製造方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291247
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121824
出願日： 1998年10月14日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】低公害でパーティクル発生の少ないBM膜を提供する。【解決手段】インジウム又は亜鉛を主成分とするターゲットを用い、酸化物薄膜又は窒化物薄膜から成る透光層54、74と、インジウム又は亜鉛を主成分とする金属反射層55、75とで積層構造のBM膜51、71を形成させる。スパッタリング雰囲気中の酸素ガスの添加量や窒素ガスの添加量を適切に選ぶことにより、低反射の黒色BM膜を得ることができる。クロム系BM膜に比べ、応力が小さいのでパーティクル発生がなく、また、エッチングの際にも公害問題が生じない。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に形成された透光層と、前記透光層上に形成された金属反射層とを有するBM膜であって、前記金属反射層の主成分は、インジウム又は亜鉛のいずれか一方であることを特徴とするBM膜。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 , C23C 14/06 , C23C 14/14 , G02F 1/1335 500

FI (4件)：

G02B 5/20 101 , C23C 14/06 A , C23C 14/14 D , G02F 1/1335 500

Fターム (23件)：

2H048BA00 , 2H048BA53 , 2H048BB14 , 2H048BB26 , 2H048BB42 , 2H091FA35Y , 2H091FB08 , 2H091FC01 , 2H091FC02 , 2H091FC29 , 2H091FD06 , 2H091GA03 , 2H091LA01 , 4K029AA09 , 4K029BA10 , 4K029BA18 , 4K029BA45 , 4K029BA49 , 4K029BA58 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029CA06

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平4-317003
特開昭61-107303
低反射アルミニウム薄膜基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-038425 出願人：株式会社倉元製作所

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審査官引用 (7件)

特開平4-317003
特開昭61-107303
低反射アルミニウム薄膜基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-038425 出願人：株式会社倉元製作所

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