微細構造転写装置および微細構造体の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：磯野道造 , 多田悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-072259
公開番号（公開出願番号）：特開2008-230027
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】本発明は、被転写体の表面のマイクロメートルスケールのうねりをスタンパの表面にならし、かつ局所的な圧力集中による樹脂の流動の妨げを抑制することで、被転写体の表面に均一で薄いパターン形成層を有する微細構造体を得ることができる微細構造転写装置を提供すること課題とする。【解決手段】本発明は、微細パターンが形成されたスタンパ2を被転写体1に接触させて、前記被転写体1の表面に前記スタンパ2の微細パターンを転写する微細構造転写装置A1において、前記スタンパ2または前記被転写体1の裏面から流体を噴きつけて前記スタンパ2または前記被転写体1を湾曲させる流路P1を有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

微細パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させて、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、前記スタンパまたは前記被転写体の裏面から流体を噴きつけて前記スタンパまたは前記被転写体を湾曲させる流体噴出機構を有することを特徴とする微細構造転写装置。

IPC (3件)：

B29C 59/02 , H01L 21/027 , B82B 3/00

FI (3件)：

B29C59/02 B , H01L21/30 502D , B82B3/00

Fターム (21件)：

4F209AA44 , 4F209AC05 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AP02 , 4F209AQ00 , 4F209AR00 , 4F209AR02 , 4F209AR20 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

インプリント装置、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-151322 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
インプリント方式の転写印刷方法、転写印刷版、転写印刷装置、および転写印刷製品
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-124785 出願人：株式会社大貫工業所, 株式会社日立製作所

審査官引用 (5件)

特開昭57-163534
加圧装置の平行調整方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-275620 出願人：有限会社ボンドテック
特開平2-126434

全件表示

前のページに戻る