特許
J-GLOBAL ID：200903059793944330
インプリント方式の転写印刷方法、転写印刷版、転写印刷装置、および転写印刷製品
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
小川 勝男
, 田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-124785
公開番号（公開出願番号）：特開2006-303292
出願日： 2005年04月22日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】ナノ、ミクロインプリント方式転写において、転写精度を高め、離反応力の低減を図る。【解決手段】 転写印刷版1に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材2または被印刷部材上に形成された樹脂膜17に転写印刷版1の凹凸の溝パターンを形成する、インプリント方式の転写印刷方法である。可撓性を有する転写印刷版1を被印刷部材2側に湾曲させて転写印刷を行なう。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
転写印刷版に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材または被印刷部材上に形成された樹脂膜に転写印刷版の凹凸の溝パターンをインプリント方式により転写印刷する転写印刷方法において、可撓性を有する転写印刷版を被印刷部材側に湾曲させて転写印刷を行なうことを特徴とする転写印刷方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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