特許
J-GLOBAL ID：200903050160817383
化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-198231
公開番号（公開出願番号）：特開2005-045229
出願日： 2004年07月05日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】 各種の被加工層の各々を高い効率で研磨することができ、十分に平坦化された精度の高い仕上げ面を得ることのできる化学機械研磨用水系分散体、およびこれを用いた化学機械研磨方法を提供すること。 【解決手段】 化学機械研磨用水系分散体は、砥粒である成分(A)と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸の少なくともいずれか一方よりなる成分(B)と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分(C)と、酸化剤よりなる成分(D)とを含有し、成分(B)の含有量(WB)と成分(C)の含有量(WC)との質量比(WB/WC)が0.01以上かつ2未満であり、アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度が0.005モル/リットル以下である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
砥粒である成分(A)と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸の少なくともいずれか一方よりなる成分(B)と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分(C)と、酸化剤よりなる成分(D)とを含有し、
成分(B)の含有量(WB)と成分(C)の含有量(WC)との質量比(WB/WC)が0.01以上かつ2未満であり、
アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度が0.005モル/リットル以下であることを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。
IPC (3件)：
H01L21/304
, B24B37/00
, C09K3/14
H01L21/304 622D
, H01L21/304 622X
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB01
, 3C058CB10
, 3C058DA12
, 3C058DA17
