特許
J-GLOBAL ID：200903050172454073

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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土村 智孝

土村 智孝 について

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三枝 浩

三枝 浩 について

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椿 英明

椿 英明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-287220
公開番号（公開出願番号）：特開2008-107377
出願日： 2006年10月23日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、良好なプロファイルのパターンを形成する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)多環環状炭化水素構造をカチオン部に有するアリールスルホニウム塩化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)多環環状炭化水素構造をカチオン部に有するアリールスルホニウム塩化合物 を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (9件)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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