特許
J-GLOBAL ID：200903098796331556

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-045654
公開番号（公開出願番号）：特開2006-079048
出願日： 2005年02月22日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：
【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。【解決手段】 (A)フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  C08F 16/22 ,  C08F 20/26 ,  C08F 32/08 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  C08F16/22 ,  C08F20/26 ,  C08F32/08 ,  H01L21/30 502R
Fターム (34件)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09R ,  4J100AK32S ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AR09P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA22P ,  4J100BA27Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB11P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (16件)
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