荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：藤巻正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-318212
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150341
出願日： 1998年11月09日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】入力ミスを防止し、EBデータへのデータ変換が迅速であると共に、EBデータのボリュームを低減することができる荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置を提供する。【解決手段】アパーチャーに形成された部分一括セルの複数個のパターンをレジスタ2に格納しておき、設計データとレジスタ2に格納された部分一括セルとを層間演算により比較し、レジスタに格納された部分一括セルパターンの中に設計データと一致するものがあるか否かを判定し、一致するものがある場合に、その部分一括セルを抽出してこれを直描用データとして出力する。また、一致するものがない場合に、設計データとレジスタに格納された部分一括セルの参照回数との関連において参照回数が所定値以上の設計データがある場合に、その部分一括セルを抽出してこれをレジスタに新規登録する。

請求項（抜粋）：

アパーチャーに形成された部分一括セルの複数個のパターンをレジスタに格納しておき、設計データと前記レジスタに格納された部分一括セルとを層間演算により比較する比較工程と、前記層間演算の結果前記レジスタに格納された部分一括セルパターンの中に前記設計データと一致するものがあるか否かを判定する判定工程と、この判定の結果、一致するものがある場合に、その部分一括セルを抽出する抽出工程と、この抽出した部分一括セルを直描用データとして出力する出力工程と、を有することを特徴とする荷電粒子線直描データ作成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 M , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 541 S

Fターム (9件)：

2H097AA03 , 2H097CA16 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 5F056AA06 , 5F056CA23 , 5F056CB11 , 5F056EA04 , 5F056EA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光処理システム装置,荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-218178 出願人：富士通株式会社
ブロック露光用パターン抽出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-347053 出願人：富士通株式会社
特開平4-219920

全件表示

前のページに戻る