特許
J-GLOBAL ID：200903050286221559
反射防止積層体
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-062975
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316415
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 フッ素原子を含有する環状エーテル類を含む電離放射線硬化型樹脂組成物のコーティング層を形成した低屈折率でかつ基材への密着性や機械的強度に優れる低屈折率層を形成した反射防止積層体を提供する。 【解決手段】 反射防止積層体は、光透過性を有する基材の少なくとも一面側に直接或いは他の層を介して低屈折率層が形成された反射防止積層体であり、前記低屈折率層が(A)成分:オキセタン化合物50〜95質量%と(B)成分:エポキシ化合物5〜50質量%と(C)成分:次の一般式(1) R1 -R3 -(CF2 )n-R4 -R2 式(1)(式中R1 及びR2 は熱及び/或いは光反応により互いに結合可能/或いは結合できない反応性基であり、R3 及びR4 は単結合又は炭素原子数1〜5の2価の炭化水素、酸素、又は硫黄であり、nは1〜30の整数を示す)で表されるフッ素含有硬化性化合物、を含有する低屈折率層形成用コーティング組成物を用いて形成されたものである。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
光透過性を有する基材の少なくとも一面側に直接、或いは他の層を介して低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、
前記低屈折率層が、
(A)成分:オキセタン化合物、
(B)成分:エポキシ化合物、及び、
(C)成分:下記一般式(1)
R1 -R3 -(CF2 )n-R4 -R2 式(1)
(式中、R1 及びR2 は、熱、及び/或いは光反応により互いに結合可能/或いは結合できない反応性基であり、R3 及びR4 は、単結合又は炭素原子数1〜5の2価の炭化水素、酸素、又は硫黄であり、nは1〜30の整数を示す。)
で表されるフッ素含有硬化性化合物、
を含有する低屈折率層形成用コーティング組成物を用いて形成されたものであり、
前記(A)成分と(B)成分の量的関係は、(A)成分対(B)成分が50質量%対50質量%から95質量%対5質量%迄であり、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(C)が1〜50質量部であることを特徴とする反射防止積層体。
IPC (6件)：
G02B1/11
, B32B7/02
, B32B9/00
, B32B27/38
, G02B1/10
, G09F9/00
G02B1/10 A
, B32B7/02 103
, B32B9/00 Z
, B32B27/38
, G09F9/00 313
, G02B1/10 Z
2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009CC09
, 2K009CC26
, 2K009CC42
, 4F100AH02B
, 4F100AH05B
, 4F100AH06B
, 4F100AK21B
, 4F100AK25B
, 4F100AK53B
, 4F100AL05B
, 4F100AT00A
, 4F100AT00C
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100CA23B
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EJ54
, 4F100EJ542
, 4F100EJ86
, 4F100EJ862
, 4F100GB41
, 4F100JD06A
, 4F100JG03E
, 4F100JK01
, 4F100JK12C
, 4F100JK14B
, 4F100JL06D
, 4F100JL11
, 4F100JM02B
, 4F100JM02C
, 4F100JN01A
, 4F100JN06
, 4F100JN18B
, 4F100JN18C
, 4F100JN18E
, 4F100JN30C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4F100YY00E
, 5G435AA06
, 5G435BB05
, 5G435BB06
, 5G435BB12
, 5G435DD12
, 5G435HH03
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (11件)
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