特許
J-GLOBAL ID：200903050306515813

多機能層を有する基体の製造方法

発明者：
古谷 正裕

古谷 正裕 について

, 
常磐井 守泰

常磐井 守泰 について

, 
田中 伸幸

田中 伸幸 について


出願人/特許権者：
財団法人電力中央研究所

財団法人電力中央研究所 について


代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-100516
公開番号（公開出願番号）：特開2007-270317
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】 表面層として耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れた酸化ジルコニウム層を有する多機能層を有する基体の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも表面層がジルコニウム、ジルコニウム合金、ジルコニウム合金酸化物又は酸化ジルコニウムからなる基体の表面を、炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ジルコニウム層又は炭素ドープジルコニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも表面層がジルコニウム、ジルコニウム合金、ジルコニウム合金酸化物又は酸化ジルコニウムからなる基体の表面を、 炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ジルコニウム層又は炭素ドープジルコニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とすることを特徴とする多機能層を有する基体の製造方法。
IPC (3件)：
C23C 8/28 ,  C04B 41/80 ,  C23C 8/20
FI (3件)：
C23C8/28 ,  C04B41/80 A ,  C23C8/20
Fターム (4件)：
4K028AA01 ,  4K028AB02 ,  4K028AC07 ,  4K028AC08
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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