特許
J-GLOBAL ID：200903050380988650

極端紫外光源装置

発明者：
小森 浩

小森 浩 について

, 
遠藤 彰

遠藤 彰 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について

, 
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-148054
公開番号（公開出願番号）：特開2007-317598
出願日： 2006年05月29日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】高速イオンや中性粒子を含むデブリを磁場の作用により排出する極端紫外光源装置において、プラズマから放出される中性粒子を効率良くイオン化する。【解決手段】少なくとも極端紫外光を放射するプラズマをパルス動作により生成するターゲット供給装置11、ターゲットノズル12及びレーザ装置15と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光するEUV集光ミラー17と、磁場が形成されている空間にパルス動作によりマイクロ波を照射して電子サイクロトロン共鳴を生じさせることにより、該プラズマから放出される中性粒子をイオン化するマイクロ波発生装置20、マイクロ波導波管21及びマイクロ波アンテナ22と、上記磁場を発生させると共に、少なくともイオン化された粒子をトラップする磁場を形成する電磁石コイル19a及び19bとを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも極端紫外光を放射するプラズマをパルス動作により生成するプラズマ生成手段と、 該プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学系と、 磁場が形成されている空間にパルス動作によりマイクロ波を照射して電子サイクロトロン共鳴を生じさせることにより、該プラズマから放出される中性粒子をイオン化するマイクロ波放射手段と、 前記磁場を発生させると共に、少なくともイオン化された粒子をトラップする磁場を形成する磁場形成手段と、 少なくとも前記プラズマ生成手段及び前記マイクロ波放射手段を同期制御する制御手段と、 を具備する極端紫外光源装置。
IPC (2件)：
H05G 2/00 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S
Fターム (10件)：
4C092AA06 ,  4C092AA10 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  4C092BD17 ,  4C092BD18 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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