特許

J-GLOBAL ID：200903059026791065

先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマEUV光源

発明者： ジェフリー・エス・ハートラブ ,  マーク・イー・マイケリアン ,  ヘンリー・シールズ ,  サミュエル・タルマッジ ,  スティーブン・ダブリュー・フォルナカ ,  アルマンド・マルトス
出願人/特許権者： ノースロップ・グラマン・コーポレーション
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  大塚 就彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-094892
公開番号（公開出願番号）：特開2005-017274
出願日： 2004年03月29日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】 高エネルギーのレーザメインパルスの直前に低エネルギーのレーザ先行パルスを用いるEUV放射源を提供する。【解決手段】 先行パルスはターゲットエリア内に弱いプラズマを生成し、メインレーザパルスのレーザ吸収を改善して、EUV放射の放出量を改善する。高エネルギーイオン流束は、先行パルスによって生成される、局在化したターゲット蒸気雲内の衝突によって低減される。また低エネルギーの先行パルスは、最大出力強度を得るためのメインパルスの20〜200ns前にターゲットエリアに到達する。低い強度のEUV放射を与えるため、先行パルスとメインパルスとの間のタイミングは160ns未満に低減することができる。1実施形態では、先行パルスは、適当なビーム強度比を有するビームスプリッタによってメインパルスから分離され、メインパルスは遅延され、先行パルス後にターゲットエリアに到達する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

極紫外線(EUV)放射を生成するためのEUV放射源であって、 ターゲット材料の少なくとも1つのストリームを生成するための装置であって、ターゲット材料がターゲットエリアに向けて指向される装置と、 メインパルスレーザビームおよび先行パルスレーザビームとを生成するためのシステムと、 を備え、前記メインパルスビームおよび前記先行パルスビームは、前記メインパルスビームの前に前記先行パルスビームが前記ターゲットエリアに到達するように時間設定され、前記先行パルスビームは前記ターゲットエリアにおいて弱くイオン化されたプラズマを生成し、前記メインパルスビームは前記EUV放射を生成する、EUV放射源。

IPC (5件)：

G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027 ,  H05G2/00 ,  H05H1/24

FI (5件)：

G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H05H1/24 ,  H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K

Fターム (4件)：

4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 軟X線光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-279699   出願人：株式会社ニコン
• X線発生装置およびその発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-015751   出願人：日本電信電話株式会社
• レーザプラズマ発生方法およびそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-085762   出願人：望月孝晏
• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-105499   出願人：工業技術院長, 株式会社島津製作所

審査官引用 (4件)

• 軟X線光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-279699   出願人：株式会社ニコン
• X線発生装置およびその発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-015751   出願人：日本電信電話株式会社
• レーザプラズマ発生方法およびそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-085762   出願人：望月孝晏
• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-105499   出願人：工業技術院長, 株式会社島津製作所