撮像装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：最上健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-033571
公開番号（公開出願番号）：特開平11-220661
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】欠陥画素の周辺領域の画像形状を考慮して、欠陥画素を高精度で補償できるようにした撮像装置を提供する。【解決手段】画素を2次元状に配置してなるCCD撮像素子1と、該撮像素子の欠陥画素位置及び欠陥画素が2次元的に連続している場合にはそれらの並び方パターンを記憶する欠陥画素情報記憶手段12と、撮像信号における欠陥画素位置の周辺領域の画像形状を、欠陥画素周囲の画素情報から検出し、その検出された画像形状に基づいて、欠陥画素を補間すべき画素を選択し、その選択画素で欠陥画素を補間補償する画素欠陥補償処理部8とを設けて撮像装置を構成する。

請求項（抜粋）：

画素を2次元状に配置してなる半導体撮像素子を備え、被写体光を画像信号に変換する撮像手段と、前記半導体撮像素子の欠陥画素位置、及び欠陥画素が2次元的に連続している場合には更にそれらの欠陥画素の並び方パターンを求める欠陥画素検出手段と、該欠陥画素検出手段で求めた欠陥画素に関する情報を記憶する欠陥画素情報記憶手段と、前記撮像手段より得られる画像信号における、前記欠陥画素検出手段より求められた欠陥画素位置の周辺領域の画像形状を、欠陥画素周囲の画素情報から検出する周辺画像形状検出手段と、該周辺画像形状検出手段によって検出された画像形状に基づいて、欠陥画素の周囲から画素を選択し、該選択画素で欠陥画素を補間することによって画素欠陥補償を行う画素欠陥補償手段とを備えていることを特徴とする撮像装置。

IPC (2件)：

H04N 5/335 , H04N 9/07

FI (2件)：

H04N 5/335 P , H04N 9/07 A

引用特許：

審査官引用 (8件)

欠陥画素傷補正回路
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-123886 出願人：松下電器産業株式会社
画像補正装置及び画像補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-056470 出願人：株式会社東芝
固体撮像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-140129 出願人：松下電器産業株式会社

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