特許
J-GLOBAL ID：200903050457426340

微細パターン形成プラスチックフィルムおよび埋め込み微細パターンの形成方法

発明者：
桂川 忠雄

桂川 忠雄 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-128167
公開番号（公開出願番号）：特開2006-308668
出願日： 2005年04月26日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】 各種の光学素子として用いる埋め込み微細パターンを有するプラスチックフィルムにおいて、400nm以下の周期を有する埋め込み型微細パターンを容易に得、特に透明なプラスチックフィルムに一度に埋め込み微細パターンを形成して、精度の良いかつ外圧によって微細凸状パターンのようなパターン倒れがないような光学素子を得ること。【解決手段】 プラスチックフィルム上に薄膜を設け、これらのプラスチックフィルムと薄膜を共に加熱した状態で、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を前記薄膜に押しつけて、該薄膜を前記加熱原盤の凸部により、プラスチックフィルム実体に陥没させた後、前記原盤の凹部に対応する陥没していない薄膜を除去することを特徴とする埋め込み微細パターンの形成方法を主たる構成にする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
薄膜を設けたプラスチックフィルムを加熱して、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を、前記薄膜を介して押圧して、前記加熱原盤の凸部に対応する薄膜部を前記プラスチックフィルム体に埋設させると共に前記原盤の凹部に対応する薄膜部を除去して得られた埋め込み微細パターン形成プラスチックフィルム。
IPC (5件)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/027 ,  B81C 5/00 ,  B29C 59/02 ,  G02B 5/30
FI (5件)：
G02B5/18 ,  H01L21/30 502D ,  B81C5/00 ,  B29C59/02 Z ,  G02B5/30
Fターム (35件)：
2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA31 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA48 ,  2H049BA02 ,  2H049BA08 ,  2H049BA45 ,  2H049BB44 ,  2H049BB46 ,  2H049BB47 ,  2H049BB63 ,  2H049BC01 ,  2H049BC05 ,  2H049BC08 ,  4F209AA21 ,  4F209AD03 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG14 ,  4F209PQ11 ,  4F209PW31 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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