特許
J-GLOBAL ID：200903050507483308

歪計測方法および歪計測装置

発明者：
玄間 隆志

玄間 隆志 について

, 
松岡 新吾

松岡 新吾 について

, 
岡本 和也

岡本 和也 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 龍華 明裕 ,  飯山 和俊 ,  明石 英也 ,  林 茂則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-146207
公開番号（公開出願番号）：特開2009-294001
出願日： 2008年06月03日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：
【課題】基板の歪みを簡便に計測する方法および装置。【解決手段】複数の素子を有する基板に、処理が実行される前に、一定の周期を有する周期パターンを形成するパターン形成段階と、他の基板に、一定の周期を有する周期パターンを形成して参照基板を作製する参照基板準備段階と、処理を実行された基板を参照基板に重ねて、周期パターンの重なりにより生じる縞を観測する観測段階と、観測段階における観測結果から基板の歪を計測する計測段階とを備える。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
複数の素子が形成される基板に、処理が実行される前に、一定の周期を有する周期パターンを形成するパターン形成段階と、 一定の周期を有する周期パターンが形成された参照基板を準備する参照基板準備段階と、 前記処理を実行された前記基板を前記参照基板に重ねて、周期パターンの重なりにより生じる縞を観測する観測段階と、 前記観測段階における観測結果から前記基板の歪を計測する計測段階と を備える歪計測方法。
IPC (2件)：
G01B 11/25 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01B11/25 H ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 Y
Fターム (19件)：
2F065AA65 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065FF06 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ19 ,  2F065MM04 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ39 ,  4M106AA01 ,  4M106AA07 ,  4M106AB15 ,  4M106CA47 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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