特許
J-GLOBAL ID：200903050541724772
効率的位相欠陥部検出システムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井ノ口 壽
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-588230
公開番号（公開出願番号）：特表2004-526168
出願日： 2002年05月02日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
複数の改変された放射収集技術に基づく光学技術を利用することにより、位相シフタ内のエラーや欠陥部に関連するフォトマスクの検査能力が大幅に向上する。特に、本発明の装置および方法により、格子線などの規則的な振幅物体の存在時にも、位相シフタ内のエラーのさらに精密な検出が可能となる。一実施形態では、同一のフォトマスク位置に対応する位相物体のわずかに焦点をずらした2つの像の強度が比較される。第2の実施形態では、2つのゼルニケ点像分布関数を持つ放射を利用してわずかに異なる位相に対して高い感度を示す2つの像が得られる。この方法を用いて収集され、解析されるデータは、従来技術の検査システムに比べて、位相物体並びに位相物体のエラーに対する高い感度を示す。実施形態には、走査形光学アーキテクチャと投影形光学アーキテクチャの双方のアーキテクチャが含まれ、試料により透過あるいは反射される放射を利用することも可能である。
請求項（抜粋）：
前面を備えたアーティクルを検査し、前記アーティクルにおける光学的変動を検出するための光学検査装置において、
光学系が、
照射経路に沿って少なくとも1つの照射ビームを出力する照射系であって、各照射ビームは関連する領域を前記アーティクルの前面に有し、さらに、前記前面から一定の距離に在る前記光学系の焦面と各照射ビームとを関連づけるように構成される照射系と、
前記アーティクルによる変更後、様々な位相情報を含む少なくとも2つの信号を前記少なくとも1つの照射ビームに応じて発生する集光系と、
関連する前面領域で変更済み照射ビームの位相または振幅の前記変動を前記信号に応じて検出するアナライザと、
を有することを特徴とする光学検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051BA11
, 2G051CB01
, 2G051CB02
