特許
J-GLOBAL ID：200903050647981278

フォトレジスト用樹脂組成物

発明者：
唐澤 昭夫

唐澤 昭夫 について

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詫摩 啓輔

詫摩 啓輔 について

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浦上 達宣

浦上 達宣 について


出願人/特許権者：
三井東圧化学株式会社

三井東圧化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-324287
公開番号（公開出願番号）：特開平9-160236
出願日： 1995年12月13日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：
【要約】【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂および感光剤を含むフォトレジスト用樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂が一般式(1)、または一般式(1)および一般式(2)で表される繰り返し単位を有する樹脂の少なくとも1種を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物。(式中、R1 〜R5 はそれぞれ独立に、置換または無置換のアルキル基、置換また無置換のアルコキシ基、シクロアルキル基、ハロゲン原子もしくは水素原子を表し、m、nは各々1〜100 の整数を表す)【効果】 ICやLSI等の半導体デバイス製造工程に用いられる高解像度を有する微細加工用のフォトレジスト用組成物を提供する。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂および感光剤を含むフォトレジスト用樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂が一般式(1)(化1)、または一般式(1)および一般式(2)(化1)で表される繰り返し単位を有する樹脂の少なくとも1種を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物。【化1】(式中、R1 〜R5 はそれぞれ独立に、置換または無置換のアルキル基、置換また無置換のアルコキシ基、シクロアルキル基、ハロゲン原子もしくは水素原子を表し、m、nは各々1〜100 の整数を表す)
IPC (4件)：
G03F 7/023 511 ,  C08K 5/28 ,  C08L 65/00 LNY ,  C09D165/00 PKT
FI (4件)：
G03F 7/023 511 ,  C08K 5/28 ,  C08L 65/00 LNY ,  C09D165/00 PKT
引用特許：
審査官引用 (3件)

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