積層型の透明導電膜、及びその透明導電膜のパターニング方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-260927
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073860
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】積層型透明導電膜のパターニング技術を提供する。【解決手段】第1のITO膜と金属薄膜と第2のITO膜との積層構造になっている透明導電膜において、透明導電膜の形成開始からエッチングまでの間に、300°C以上の高温にせず、第1、第2のITO膜にアモルファス構造を維持させる。図10(a)、(b)はアモルファス構造のITO膜、同図(c)は結晶化したITO膜を示している。アモルファス構造の第1、第2のITO膜は蓚酸によってエッチングできる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された第1のITO膜と、前記第1のITO膜表面に形成された透明な金属薄膜と、前記金属薄膜表面に形成された第2のITO膜とを有する積層型の透明導電膜であって、前記第1、第2のITO膜と前記金属薄膜は、300°C未満の温度で形成されたことを特徴とする透明導電膜。

IPC (8件)：

C23C 28/00 , C23C 14/06 , C23C 14/08 , C23F 1/00 , C23F 1/30 , H05B 33/10 , H05B 33/14 , H05B 33/28

FI (8件)：

C23C 28/00 E , C23C 14/06 N , C23C 14/08 D , C23F 1/00 Z , C23F 1/30 , H05B 33/10 , H05B 33/14 A , H05B 33/28

Fターム (34件)：

3K007AB17 , 3K007AB18 , 3K007CB04 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4K029AA09 , 4K029BA02 , 4K029BA04 , 4K029BA50 , 4K029BC08 , 4K029BC09 , 4K029BD02 , 4K029CA06 , 4K029EA08 , 4K029GA00 , 4K044AA12 , 4K044AB10 , 4K044BA08 , 4K044BA10 , 4K044BA12 , 4K044BB10 , 4K044BB15 , 4K044BC14 , 4K044CA13 , 4K044CA62 , 4K057WA11 , 4K057WB01 , 4K057WB20 , 4K057WC01 , 4K057WE02 , 4K057WE04 , 4K057WE14 , 4K057WM03 , 4K057WN02

引用特許：

審査官引用 (7件)

透明導電膜のパターニング方法と透明電極付き基体
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-034025 出願人：旭硝子株式会社
多層導電膜のエッチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-177747 出願人：凸版印刷株式会社
プラズマプロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-074037 出願人：株式会社東芝

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