特許
J-GLOBAL ID:200903050834999555
X線反射計用のビームセンタリング方法及び角度較正方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
河宮 治
, 石野 正弘
, 稲葉 和久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-409151
公開番号(公開出願番号):特開2004-191376
出願日: 2003年12月08日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】 X線反射計についての改善された方法及びシステムを提供する。【解決手段】 サンプル表面を検査する方法は、焦点領域を持つ放射線ビームを面に照射してすれすれに入射させるステップを含み、それによって、前記放射線は前記面から反射する。前記面に対する前記焦点領域の位置を変えるために、調整レンジ内の複数の調整ステージを通じて少なくとも一つの焦点領域及びサンプルが調整される。前記複数の調整ステージで前記面から反射された放射線のそれぞれの角度プロファイルが測定され、前記面が、前記ビームについて望ましいアライメントにあるレンジ内の調整を選択するために、前記角度プロファイルが比較される。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
焦点領域を持つ放射線ビームを面に照射してすれすれに入射させて、前記放射線を前記面から反射させるステップと、
前記面に対する前記焦点領域の位置を変えるために、調整レンジ内の複数の調整ステージを通じて少なくとも一つの焦点領域及びサンプルを調整するステップと、
前記複数の調整ステージで前記面から反射された放射線のそれぞれの角度プロファイルを測定するステップと、
前記面が、前記ビームについて望ましいアライメントにあるレンジ内の調整を選択するために、前記角度プロファイルを比較するステップと
を含むサンプル表面の検査方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (31件):
2F067AA27
, 2F067AA45
, 2F067CC17
, 2F067EE10
, 2F067HH04
, 2F067JJ03
, 2F067KK08
, 2F067KK11
, 2F067LL15
, 2F067PP12
, 2G001AA01
, 2G001AA02
, 2G001BA04
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001CA02
, 2G001DA01
, 2G001DA08
, 2G001DA09
, 2G001DA10
, 2G001EA02
, 2G001EA09
, 2G001GA08
, 2G001HA01
, 2G001JA11
, 2G001KA01
, 2G001KA11
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001NA18
, 2G001PA14
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
X線分析装置およびX線照射角設定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-117228
出願人:株式会社テクノス研究所
-
全反射X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-009789
出願人:株式会社日立製作所
-
特開平3-148056
-
全反射角度設定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-074765
出願人:松下電器産業株式会社
-
特開平3-160353
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