製膜装置およびこれを用いた薄膜の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008384
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216539
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：

【要約】【構成】集束したレーザ光をターゲットに照射してプラズマ化し、発生させた粒子を基板上に堆積させるレーザ蒸着法に用いられる製膜装置において、前記ターゲットが前記基板に対して平行かつ直線的に移動可能であることを特徴とする製膜装置。【効果】本発明によれば、長時間安定した蒸着速度を保ち、膜厚不均衡の少ない大面積の製膜が可能になる。また安定した蒸着条件を達成できるため質のよい膜が形成できる。

請求項（抜粋）：

集束したレーザ光をターゲットに照射してプラズマ化し、発生させた粒子を基板上に堆積させるレーザ蒸着法に用いられる製膜装置において、前記ターゲットが前記基板に対して平行かつ直線的に移動可能であることを特徴とする製膜装置。

IPC (7件)：

C23C 14/28 , B01J 19/12 , C01G 1/00 , C01G 3/00 ZAA , C30B 29/22 501 , H01B 12/06 ZAA , H01B 13/00 565

引用特許：

審査官引用 (19件)

特開平4-212216
蒸着薄膜の作製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-127495 出願人：三菱化成株式会社
特開平1-208455

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