特許
J-GLOBAL ID：200903051323000106
基板処理装置及び基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-361109
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326752
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 反応容器の内部が基板搬入搬出口を介して外部に開放されている期間、反応容器の内部への外気の侵入と気相の逆流とを抑制することができるようにする。【解決手段】 縦型CVD装置200は、第2のガス供給系240と、第2のバイパスライン264とを有する。第2のガス供給系240は、ボートロード期間とボートアンロード期間に、反応炉211のアウタチューブ1Aとインナチューブ2Aとの間の空間3aに不活性ガスを供給する。第2のバイパスライン264は、ボートロード期間とボートアンロード期間に、反応室1aの内部の雰囲気をスロー排気処理により排出する。
請求項（抜粋）：
反応容器の内部で化学反応を使って基板に所定の処理を施す装置であって、前記反応容器として、ほぼ同軸的に配設された外側筒状体と内側筒状体とを有し、一端部に基板搬入搬出口が設けられるとともに、この一端部から基板処理用の反応ガスが供給され、他端部から前記外側筒状体と前記内側筒状体との間の空間を介して内部の雰囲気が排出されるような2重構造の反応容器を用いる基板処理装置において、前記反応容器の内部が前記基板搬入搬出口を介して外部に開放されている期間のうち予め定めた期間、前記外側筒状体と前記内側筒状体との間の空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記反応容器の内部が前記基板搬入搬出口を介して外部に開放されている期間のうち予め定めた期間、基板処理用の雰囲気排出路を使って前記反応容器の内部の雰囲気を排出する雰囲気排出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, C23C 16/50
, H01L 21/31
H01L 21/205
, C23C 16/44 D
, C23C 16/50
, H01L 21/31 C
