基板洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-218989
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064863
出願日： 1996年08月21日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】基板上の径の小さな粒子(ゴミ)も除去可能であり、凹凸がある基板表面の洗浄残りを防止することが可能であり、基板上に形成された薄膜や微細構造を洗浄してもそれを破壊することなく、また基板の変質、歪み、または破壊を引き起こすことなく、ウエハやレチクル等の基板表面や処理を施した基板の処理表面等の表面洗浄を行うことができる基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】基板201表面に、或いは処理を施した基板210の処理表面に付着した異物210を除去することにより表面洗浄を行う基板洗浄装置において、前記表面に液体の膜を形成する液膜形成機構205、241と、前記基板201の裏面側から洗浄対象の表面に向けて前記液膜が強い吸収を示す波長のパルス光220を照射するパルス光照射機構とを備え、前記液膜形成機構により前記表面に液膜を形成した状態にて、該表面に前記パルス光照射機構によりパルス光220を照射して前記液膜を蒸発させることにより前記異物210を除去することを特徴とする基板洗浄装置。

請求項（抜粋）：

基板表面に、或いは処理を施した基板の処理表面に付着した異物を除去することにより表面洗浄を行う基板洗浄装置において、前記表面に液体の膜を形成する液膜形成機構と、前記基板の裏面側から洗浄対象の表面に向けて前記液膜が強い吸収を示す波長のパルス光を照射するパルス光照射機構とを備え、前記液膜形成機構により前記表面に液膜を形成した状態にて、該表面に前記パルス光照射機構によりパルス光を照射して前記液膜を蒸発させることにより前記異物を除去することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , G03F 7/38 501

FI (2件)：

H01L 21/304 341 D , G03F 7/38 501

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-311035
基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-323102 出願人：三菱電機株式会社
ドライエッチング方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-175344 出願人：株式会社芝浦製作所

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