特許
J-GLOBAL ID：200903088457435185

ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた表示素子用基材

発明者：
加藤 哲也

加藤 哲也 について

, 
青木 知三郎

青木 知三郎 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-330593
公開番号（公開出願番号）：特開2003-202663
出願日： 1998年10月02日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：
【要約】【課題】 基板全体にわたって均一な膜厚の塗膜形成が可能であり、面内均一性の優れた塗膜を与えるポジ型ホトレジスト塗布液、及びそれを用いた表示素子用基材を提供する【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)有機溶剤に溶解してなる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液に、(D)フッ素-ケイ素系界面活性剤を配合するとともに、これを用いてこの塗布液の塗膜をガラス角基板上に形成させて表示素子用基材とする。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)有機溶剤に溶解してなる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液において、(D)成分として、フッ素-ケイ素系界面活性剤を配合したことを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (3件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (13件)：
2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025DA19 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (3件)

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