特許

J-GLOBAL ID：200903055335737398

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 森尾 公隆 ,  加藤 哲也
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-302552
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131835
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 高温ベークに施されても昇華物が発生しにくく、感度、解像性に優れるとともに、残膜率の高い矩形に近いレジストパターンを形成し得るポジ型ホトレジスト組成物の提供。【解決手段】 (a)少なくともp-クレゾールを含むフェノール類を酸触媒下アルデヒド類と反応させて得られる非ハイオルソ型のクレゾールノボラック樹脂および(b)キノンジアジド基含有化合物を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、(a)成分中のp-クレゾールの2核体含有量がGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)法において2.0重量%未満であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)少なくともp-クレゾールを含むフェノール類を酸触媒下アルデヒド類と反応させて得られる非ハイオルソ型のクレゾールノボラック樹脂および(b)キノンジアジド基含有化合物を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、(a)成分中のp-クレゾールの2核体含有量がGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)法において2.0%未満であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-166618   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開平3-125152
  
• ポジ型フオトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-002791   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-285448   出願人：富士写真フイルム株式会社