特許
J-GLOBAL ID：200903051569036991

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-247832
公開番号（公開出願番号）：特開2007-304545
出願日： 2006年09月13日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】ラインエッジラフネスに優れ、かつ液浸液の水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する珪素原子を有さない樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記(X)〜(Z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ有する珪素原子含有樹脂、並びに、(X)アルカリ可溶性基、(Y)アルカリ現像液の作用により分解し樹脂(C)のアルカリ現像液に対する溶解度を増大させる基及び(Z)酸の作用により分解し樹脂(C)のアルカリ現像液に対する溶解度を増大させる基、(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する珪素原子を有さない樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)下記(X)〜(Z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ有する珪素原子含有樹脂、並びに、 (X)アルカリ可溶性基、 (Y)アルカリ現像液の作用により分解し樹脂(C)のアルカリ現像液に対する溶解度 を増大させる基及び (Z)酸の作用により分解し樹脂(C)のアルカリ現像液に対する溶解度を増大させる基、 (D)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/075 511 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (23件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF03 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB13 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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