特許
J-GLOBAL ID：200903051718663619
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-083167
公開番号（公開出願番号）：特開平8-255315
出願日： 1995年03月15日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドのトラック幅を高精度に決め、また3層膜の端面の形状を高精度に制御できるようにして、磁気検出特性を向上させる。【構成】 非磁性材料層1の上に縦バイアス層4と電極層5を形成し、これをエッチングして部分的に除去しトラック幅Twを決める。その上に、下から磁気抵抗効果層2a、非磁性材料層2b、横バイアス層2cが積層された3層膜2を形成する。この3層膜をエッチングして、縦バイアス層4と電極層5との間隔部分にのみ3層膜2を残す。3層膜2の両端面の形状は、縦バイアス層と電極層5の端面により高精度に決められる。よって3層膜の磁気検出特性が良好になり、また縦バイアス層4と磁気抵抗効果層2aとの磁気的結合も良好になる。
請求項（抜粋）：
一定の間隔を開けて形成された縦バイアス層と、前記間隔内にて、下側から磁気抵抗効果層、非磁性層、横バイアス層の順に積層された3層と、前記3層の両側にて前記縦バイアス層に積層して形成された電極層と、を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
前のページに戻る
