特許
J-GLOBAL ID：200903051796877846
高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸及びそれを用いた表面処理組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-174892
公開番号（公開出願番号）：特開平10-017533
出願日： 1996年07月04日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】 基体表面への金属不純物の汚染を長時間にわたって防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる基体の表面処理組成物に用いられる高純度エチレンジアミンジオルヒドロキシフェニル酢酸を提供する。【解決手段】 Fe、Al、Znの内の少なくとも1つの金属元素の含有量が5ppm以下である高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸またはそのアンモニウム塩。
請求項（抜粋）：
Fe、Al、Znの内の少なくとも1つの金属元素の含有量が5ppm以下である事を特徴とする高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸またはそのアンモニウム塩。
IPC (5件)：
C07C229/64
, C07C227/42
, C09K 3/00 108
, C11D 7/32
, H01L 21/304 341
C07C229/64
, C07C227/42
, C09K 3/00 108 C
, C11D 7/32
, H01L 21/304 341 L
