特許

J-GLOBAL ID：200903051824627869

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 児玉 邦彦 ,  椿 英明 ,  田口 紀彦
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-260412
公開番号（公開出願番号）：特開2008-083158
出願日： 2006年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、特定の酸を発生する化合物及び(B)特定の酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(II)で表される酸を発生する化合物、及び、 (B)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 2/50 ,  C08F 20/16 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F2/50 ,  C08F20/16 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA03 ,  4J011SA83 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC54P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-050664   出願人：住友化学株式会社
• レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-350353   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-133816   出願人：JSR株式会社