特許

J-GLOBAL ID：200903051862504894

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者： 高島 正伸 ,  石川 弘美 ,  下山 裕司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-058201
公開番号（公開出願番号）：特開2005-249970
出願日： 2004年03月02日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】 凹凸追従性に優れ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、該感光層を短時間で現像でき、しかも現像後における現像液の汚れを抑制可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、感光層とをこの順に有し、各層の層間接着力の中で前記感光層と前記バリア層との層間接着力が最も小さいことを特徴とするパターン形成材料である。また、前記パターン形成材料を備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。前記パターン形成材料における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

支持体上に、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、感光層とをこの順に有し、各層の層間接着力の中で前記感光層と前記バリア層との層間接着力が最も小さいことを特徴とするパターン形成材料。

IPC (7件)：

G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

FI (9件)：

G03F7/004 512 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/11 503 ,  H05K3/00 F ,  H05K3/00 G ,  H05K3/00 H ,  H01L21/30 578

Fターム (26件)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC42 ,  2H025BC45 ,  2H025BC66 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025CA48 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB51 ,  2H025DA01 ,  2H025DA19 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5F046NA19

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-115418   出願人：日立化成工業株式会社

審査官引用 (5件)

• ポジ型フォトレジスト転写材料およびそれを用いた基板表面の加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-143850   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 転写フィルム及びカラーフィルタの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-149237   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性エレメント、その積層方法及びレジスト形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-331071   出願人：日立化成工業株式会社
• 回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-115418   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性転写材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-032009   出願人：富士写真フイルム株式会社