特許
J-GLOBAL ID：200903051917666619

フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ

発明者：
松政 健司

松政 健司 について

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舛田 伊知郎

舛田 伊知郎 について

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田中 元也

田中 元也 について

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安原 寿二

安原 寿二 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-328564
公開番号（公開出願番号）：特開2009-151071
出願日： 2007年12月20日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】1工程で配向制御突起、第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサーを形成するすることのできるフォトマスク、また第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサー、配向制御突起が設けられたカラーフィルタを廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供すること。【解決手段】フォトマスクPM上のパターンは、遮光部32、透光部33、及び2種の半透光部34からなり、2種の半透光部は、透過率が異なる2種の半透光膜(ハーフトーン膜)、開口率が異なる2種の微細パターン(グレートーン部)、又は半透光膜と微細しパターンの2種からなり、該半透光膜の透過率と該微細パターンの実効透過率が異なること。上記フォトマスクを用いること。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
カラーフィルタを構成する第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサー、及び配向制御突起を同時に形成するフォトマスクであって、前記フォトマスク上のパターンは、遮光部、透光部、及び2種の半透光部からなり、前記2種の半透光部の内の1種の半透光部は、前記第二フォトスペーサーの形成に対応し、他の1種の半透光部は、前記配向制御突起の形成に対応していることを特徴とするフォトマスク。
IPC (1件)：
G02F 1/133
FI (4件)：
G02F1/1339 500 ,  G02F1/1335 515 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1337
Fターム (27件)：
2H089HA15 ,  2H089LA09 ,  2H089LA16 ,  2H089NA13 ,  2H089NA14 ,  2H089QA12 ,  2H089QA14 ,  2H089QA15 ,  2H089QA16 ,  2H090HA14 ,  2H090HB07Y ,  2H090HC01 ,  2H090HC10 ,  2H090HC13 ,  2H090HC18 ,  2H090JA02 ,  2H090MB11 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FC29 ,  2H091LA12 ,  2H191FA02Y ,  2H191FC10 ,  2H191FC33 ,  2H191FC41 ,  2H191LA13
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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