特許

J-GLOBAL ID：200903052177991533

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 麻 籍文
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-102676
公開番号（公開出願番号）：特開2005-026668
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】 簡易な構成で基板の状態を検出することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。【解決手段】 基板Wは搬送アームbm4の上面に配置された4個の基板支持部PSの平面により支持されている。3個の超音波式距離測定センサTS1,TS2,TS3は基板Wの上方に設置された固定台KDに固定される。この3個の超音波式距離測定センサTS1,TS2,TS3は、基板Wの外周部近傍における基板Wの上面までの距離を測定できるように配置されている。この場合、基板Wが正常に支持されている状態で超音波式距離測定センサTS1,TS2,TS3の測定値が等しくなるように、超音波式距離測定センサTS1,TS2,TS3が位置決めされている。超音波式距離測定センサTS1,TS2,TS3は、各々基板Wの上面までの距離を測定し、その測定値を制御部CLに与える。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

基板に処理を行う基板処理装置であって、 基板に処理を行う複数の処理部と、 基板の受け渡しのための受け渡し位置と、 前記受け渡し位置と所定位置との間で基板を支持して搬送する第1の搬送手段と、 前記受け渡し位置と前記複数の処理部のいずれかとの間で基板を支持して搬送する第2の搬送手段と、 前記受け渡し位置に設けられ、前記第1または第2の搬送手段により支持される基板の水平面に対する傾斜状態を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/68 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304

FI (4件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/68 G ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/304 648A

Fターム (22件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA02 ,  5F031GA06 ,  5F031GA36 ,  5F031GA38 ,  5F031GA43 ,  5F031JA05 ,  5F031JA06 ,  5F031JA09 ,  5F031JA13 ,  5F031JA17 ,  5F031JA30 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031KA02 ,  5F031KA10 ,  5F031PA02 ,  5F031PA20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-252308   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板搬送装置および基板搬送方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-118581   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 露光装置、基板収納装置、デバイス製造システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-171553   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-248634