特許
J-GLOBAL ID：200903026122130082

露光装置、基板収納装置、デバイス製造システム

発明者：
上田 壮一

上田 壮一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-171553
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367888
出願日： 2001年06月06日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：
【要約】【課題】 特定位置に対する位置決め動作を効率良く行ってから基板を搬送し、所望の性能を有するデバイスを製造できるデバイス製造システムを提供する。【解決手段】 デバイス製造システムSYSは、パターンを基板Pに露光する露光本体部EXと、露光本体部EXからステージ部STまで基板Pを搬送する搬送装置H1,H2と、ステージ部STから基板収納装置Fまで基板Pを搬送する搬送装置H3とを有している。ステージ部STには、搬送装置H1,H3に保持されている基板TPの位置を検出する検出装置20が設けられている。制御装置CONTは検出装置20の検出結果に基づいて、ステージ部STに対する搬送装置H1,H3の姿勢情報を求め、求めた姿勢情報に基づいて、基板Pをステージ部STに搬送する際の、搬送装置H1,H3の姿勢を制御する。
請求項（抜粋）：
パターンを基板に露光する露光本体部と、前記露光本体部から該露光本体部外部の特定位置まで前記基板を搬送する搬送装置とを備えた露光装置において、前記搬送装置の、前記特定位置を含む搬送経路中に設けられ、前記搬送装置に保持されている前記基板の位置を検出する検出装置と、前記検出装置の検出結果に基づいて、前記特定位置に対する前記搬送装置の姿勢情報を求め、該求めた姿勢情報に基づいて、前記基板を前記特定位置に搬送する際の、前記特定位置に対する前記搬送装置の姿勢を制御する制御装置とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (5件)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/68 V ,  H01L 21/30 502 J
Fターム (47件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031CA11 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA08 ,  5F031GA45 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA58 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031JA05 ,  5F031JA06 ,  5F031JA14 ,  5F031JA17 ,  5F031JA22 ,  5F031JA29 ,  5F031JA32 ,  5F031JA36 ,  5F031JA51 ,  5F031KA10 ,  5F031KA11 ,  5F031KA20 ,  5F031LA03 ,  5F031LA04 ,  5F031LA07 ,  5F031LA08 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031PA02 ,  5F046AA17 ,  5F046CD05 ,  5F046DA09 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (8件)
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