焦点位置制御機構及び方法、並びに、半導体ウェハの検査装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261177
公開番号（公開出願番号）：特開2001-082926
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】半導体ウェハを観察する対物レンズの自動焦点合わせを行う。【解決手段】半導体顕微鏡装置は、半導体ウェハを支持する検査用ステージ11と、半導体ウェハを観察するための対物レンズ36とを備えている。この対物レンズ36の自動終点合わせをするには、ナイフエッジ84を用いてスポットの焦点ずれ量を検出する。このとき、ボイスコイルモータ86でコリメータレンズ85を振動させて、ウェハ上のスポットを振動させる。そして、このとき検出された焦点ずれ量のピーク値をホールドして、位置検出信号を生成し、この位置検出信号が所定の目標値となるように、検査用ステージ11を上下方向に移動させる。

請求項（抜粋）：

光を透過する材料上に光反射パターンが形成された照射対象物を支持する支持手段と、上記支持手段により支持された上記照射対象物に対して、対物レンズで集光した光を照射する照射手段と、上記対物レンズを用いて上記照射対象物上に光スポットを形成し、形成した光スポットからの反射光を検出することにより、上記光反射パターンと上記対物レンズとの間の距離を検出する距離検出手段と、上記距離検出手段が検出した上記光反射パターンと上記対物レンズとの間の距離に基づき上記支持手段及び/又は上記対物レンズを移動させ、上記光反射パターンと上記対物レンズとの間の距離を上記対物レンズの焦点距離に一致させる制御を行う制御手段とを備え、上記距離検出手段は、上記照射対象物上に形成した光スポットを、この照射対象物に対して水平方向に振動させ、上記光反射パターンと上記対物レンズとの間の距離を検出することを特徴とする焦点位置制御機構。

IPC (3件)：

G01B 11/00 , G01N 21/956 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01B 11/00 H , G01N 21/956 A , H01L 21/66 J

Fターム (54件)：

2F065AA07 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD10 , 2F065DD19 , 2F065FF01 , 2F065FF10 , 2F065FF21 , 2F065GG06 , 2F065GG12 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ24 , 2F065KK02 , 2F065LL30 , 2F065LL65 , 2F065MM16 , 2F065PP22 , 2F065QQ02 , 2F065QQ03 , 2F065RR02 , 2F065RR07 , 2F065SS03 , 2F065TT04 , 2F065UU07 , 2G051AA51 , 2G051AB20 , 2G051AC02 , 2G051BA05 , 2G051BA08 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051DA03 , 2G051DA06 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051FA10 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106BA07 , 4M106CA40 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DJ04 , 4M106DJ05 , 4M106DJ06 , 4M106DJ07 , 4M106DJ18 , 4M106DJ23

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平1-263610
特開平1-263610
対象面の位置検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-069760 出願人：株式会社トプコン, 株式会社東芝

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