特許
J-GLOBAL ID：200903052434025562
Mg系フェライト並びに該フェライトを用いた電子写真現像用キャリア及び現像剤
発明者：
,
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,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 沖本 一暁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-264875
公開番号（公開出願番号）：特開2005-162597
出願日： 2004年09月13日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 高い絶縁破壊電圧及び電子写真現像に適した飽和磁化を有するMg系フェライト、該フェライトを含むキャリア、及び該キャリアを含む電子写真現像剤を提供する。【解決手段】 本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。該Mg系フェライト材料により、高画質化と環境規制への対応を図ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
式(1):
XaMgbFecCadOe (1)
(XはLi, Na, K, Rb, Cs, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせであり;
a, b, c, 及びdは
0.001 ≦ R(X) ≦ 0.15,
(ただしR(X)は以下の式:
R(X)= a×(Aw(X) + (n/2)×Aw(O)) / ( a×(Aw(X) + (n/2)×Aw(O)) + b×Fw(MgO) + (c/2)×Fw(Fe2O3) + d×Fw (CaO) )
で表され、;
Aw(X)及びAw(O)はそれぞれX及びOの原子量を表し;
nはXの酸化数を表し;
Fw(A)はAの式量を表す)
0.01 ≦ b/(b+c/2) ≦ 0.85, 及び
0 ≦ R(Ca) ≦ 0.15
(ただしR(Ca)は以下の式
R(Ca)= d×Fw(CaO) / ( a×(Aw(X) + (n/2)×Aw(O)) + b×Fw(MgO) + (c/2)×Fw(Fe2O3) + d×Fw (CaO))
で表され ;
Fw(A)はR(X)について記載の通りである)
を充たし、
eはX, Mg, Fe, 及びCaの酸化数により定まる数である)
の組成を有するMg系フェライト材料。
IPC (5件)：
C01G49/00
, G03G9/107
, G03G9/113
, H01F1/11
, H01F1/113
C01G49/00 A
, H01F1/11 Q
, H01F1/113
, G03G9/10 321
, G03G9/10 351
2H005BA02
, 2H005BA06
, 2H005CA12
, 2H005CB04
, 4G002AA06
, 4G002AA08
, 4G002AA09
, 4G002AA12
, 4G002AB02
, 4G002AD04
, 4G002AE03
, 5E040AB03
, 5E040BC05
, 5E040CA07
, 5E040HB07
出願人引用 (14件)
-
特許第1,688,677号公報
-
特許第3,243,376号公報
-
特許第2,860,356号公報
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審査官引用 (11件)
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