基板処理装置および基板処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-237529
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087210
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】処理液の消費量が低減できかつ効率よく安全に水洗を行う。【解決手段】基板処理装置1は、水平姿勢で搬送される基板Sの表面に現像液を供給して現像液の表面張力により基板S表面に現像液の液層を形成する液層形成室2と、現像液の液層を形成された基板Sを保持して液層の現像液による処理を進行させる処理進行室3と、現像液の液層による処理終了後の基板Sの姿勢を傾斜姿勢に変換する姿勢変換室4と、傾斜姿勢の基板Sの表面に洗浄液を供給して洗浄する洗浄室5と、洗浄後の基板Sを乾燥させる乾燥室6と、乾燥後の基板を水平姿勢に戻す姿勢変換室7とを備える。パドル現像の後に基板を傾斜姿勢にして現像液を流下し、傾斜姿勢のまま洗浄処理を行う。【効果】処理液消費量を低減し、傾斜姿勢で洗浄を効率よく安全に行える。

請求項（抜粋）：

基板の表面に処理液を供給して処理する基板処理装置において、基板を水平姿勢で搬送する搬送手段と、水平姿勢で搬送される基板の表面に処理液を供給して処理液の表面張力により基板表面に液層を形成する液層形成手段と、前記液層が形成された基板を保持して液層の処理液による処理を進行させる処理進行手段と、液層による処理終了後の基板の姿勢を傾斜姿勢に変換する姿勢変換手段と、姿勢変換手段により傾斜姿勢とされた基板の表面に洗浄液を供給して洗浄する洗浄手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 351 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 569 D , H01L 21/304 351 C , H01L 21/68 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-200128 出願人：キヤノン株式会社
基板表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-173300 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-123613 出願人：株式会社東芝

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審査官引用 (2件)

現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-200128 出願人：キヤノン株式会社
基板表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-173300 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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