特許
J-GLOBAL ID：200903052482862638

熱処理装置および基板処理装置

発明者：
辻 雅夫

辻 雅夫 について

, 
西村 讓一

西村 讓一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-109103
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319626
出願日： 2003年04月14日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
【課題】ホットプレートによるオーバーベークを確実に防止するとともに、高いスループットを得ることができる熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理部16には、露光後ベークプレートPEBと、クールプレートCP3と、ローカル搬送ロボットLHUとが設けられている。ローカル搬送ロボットLHUの保持プレート51は、基板Wの下面のほぼ全面に近接してその基板Wを保持することができる。また、保持プレート51は、露光後ベークプレートPEBとクールプレートCP3との間で往復移動が可能であるとともに、昇降移動も可能に構成されている。露光後ベークプレートPEBにて加熱された基板は保持プレート51によって受け取られることで直ちにある程度冷却され、そのクールプレートCP3に移動して凹部49に嵌合することで基板Wの冷却と精密な温調が行われる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板を加熱するホットプレートと、当該基板を冷却するクールプレートと、前記ホットプレートと前記クールプレートとの間で基板を搬送する搬送機構とを備えた熱処理装置において、 前記搬送機構は、 基板の下面のほぼ全面に近接して当該基板を保持する保持プレートと、 前記保持プレートを前記ホットプレートと前記クールプレートとの間で往復移動させる往復移動機構と、 前記保持プレートを昇降させる昇降機構と、 を備え、 前記ホットプレートにて加熱された基板を受け取った前記保持プレートが前記往復移動機構によって前記クールプレートの上方に移動された状態にて前記昇降機構が前記保持プレートを下降させて前記クールプレートに密着させることを特徴とする熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38
FI (3件)：
H01L21/30 566 ,  G03F7/30 501 ,  G03F7/38 511
Fターム (8件)：
2H096AA25 ,  2H096DA01 ,  2H096FA01 ,  2H096GA21 ,  2H096GB03 ,  2H096HA01 ,  5F046KA04 ,  5F046KA10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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